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超低溫恒溫槽（-60℃～90℃）應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，低溫測(cè)量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用，可以提供熱冷受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃。

低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～90℃），MD20-12，容積12L，控溫范圍-20℃～90℃，高至溫度100℃，作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于低溫測(cè)量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用.

低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～90℃）可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，低溫測(cè)量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用。

低溫恒溫循環(huán)槽MD10-8 低溫恒溫槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃。

低溫恒溫水槽-5℃～90℃，MD5-30提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃。

MD30-30加熱制冷浴槽（-30℃～90℃），容積30L，控溫范圍-30℃～90℃，用于石油化工、制藥及半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域低溫測(cè)量與檢定，樣品保存等浸入式實(shí)驗(yàn)或外循環(huán)應(yīng)用

MD5-12低溫恒溫循環(huán)槽（-5℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃。